Hochstabile Temperaturdioden mit Einpunktkalibrierung für den Temperaturbereich bis 220°C

Presseinformation 06/2016

Halbleiterdioden und Transistoren sind kleine preiswerte, hochempfindliche und nahezu lineare Temperatursensoren. Fertigungsbedingt kommt es immer zu einer Exemplarstreuung, was die Austauschbarkeit ohne Einzelkalibrierung verhindert.


Im CiS Forschungsinstitut wurden technologische Prozesse für Siliziumwafer (Abb. 1) entwickelt, mit denen eine reproduzierbare Empfindlichkeit dU/dT, also die Steigung der Spannung über der Temperatur erreicht werden konnte (Abb. 2).



Durch Prozesssimulationen und anschließende Versuchsreihen wurden sowohl die Implantationsparameter als auch die Geometriefaktoren dahingehend optimiert, dass die Abweichung der U/I-Kennlinie vom Idealverlauf minimiert wird.

Mit diesem Ansatz wird erstmalig eine kostenschonende und zuverlässige Einpunkt-Kalibrierung möglich.

Durch die Verwendung der SOI-Technologie und die dadurch erzielte Reduktion von Leckströmen ist es gelungen, eine hohe Stabiltät der Messung in einem Temperaturbereich bis auf 220°C zu erzielen.

Projektpräsentation zur:
Hannover Messe, 25.-29. April 2016, Hannover, Halle 4 Stand F34
SENSOR+TEST, 10.-12. Mai 2016, Nürnberg, Halle 5 Stand 5-364


Über die CiS Forschungsinstitut für Mikrosensorik GmbH
Die CiS Forschungsinstitut für Mikrosensorik GmbH ist ein führender F&E-Anbieter in den Bereichen optische, mikromechanische, piezoresistive und kapazitive Sensoren sowie Siliziumdetektoren. Sie beschäftigt 120 Mitarbeiter und  unterstützt Unternehmen bei der Entwicklung kundenspezifischer Lösungen im Bereichen Sensorik und Mikrosystemtechnik und fertigt diese in Kleinserien. Basis ist die Siliziumtechnologie mit den Spezialitäten: 3D-Strukturierung, Stapeltechnologien und beidseitige Wafer-Prozessierung.

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