Gründung des Deutsch-Chinesischen MEMS Smart Sensor Institutes

Presseinformation 15/2017

Mikro-Elektro-Mechanische-Systeme – kurz MEMS bilden die Grundlage für vielfältige moderne Sensoren.
Am 28.11.2017 wurde das „Deutsch-Chinesisches MEMS Smart Sensor Institut“ im chinesischen Jiangsu gegründet. Ziel ist die gemeinsame Entwicklung und Industrialisierung von neuartigen MEMS Sensoren und Systemen.

Die CiS Forschungsinstitut für Mikrosensorik GmbH in Erfurt dient dabei als Vorbild. Die unabhängige wirtschaftsnahe Forschungseinrichtung wurde ausgewählt, weil sie seit über 20 Jahren MEMS entwickelt und sehr erfolgreich in die industrielle Produktion überführt.

Initiert wurde die Gründung von Herr Chen von der „Der Sensor Group“, Prof. Dr. Ortlepp vom CiS und Herrn Li als Vertreter der lokalen Regierung von Jiangning. Die „Der Sensor Group“ unterhält Standorte in Frankfurt am Main in Deutschland sowie in Jiangsu und Chongqing in China. Wissenschaftlich unterstützt wird das neue Institut durch die „Southeastern University“ in Nanjing.  
Der Standort für das neue Institut ist exzellent. Bereits heute bildet dieses Gebiet mit dem zweithöchsten Brutoinlandsprodukt aller chinesischen Regionen ein Zentrum der Mikrotechnologie in China.

Zudem unterstützt die lokale Regierung gerade jetzt den Ausbau der Hochtechnologie stark. Viele der weltweit führenden Produzenten von Elektronikgeräten sind in dieser Region zu finden.

Das neue Institut wird innovative Sensor-Lösungen entwickeln. Die dafür notwendigen Fertigungstechnologien werden am CiS entwickelt, skaliert und transferiert. Die anschließende Serienproduktion der MEMS Komponenten kann dann beispielsweise in der X-FAB MEMS Foundry GmbH erfolgen. Die Systemintegration und der Gerätebau findet dann in China statt.
Bereits in 6 Monaten soll das im Rohbau fertig gestellte Institutsgebäude bezugsfertig sein.




Über die CiS Forschungsinstitut für Mikrosensorik GmbH
Die CiS Forschungsinstitut für Mikrosensorik GmbH ist ein führender Entwicklungspartner in den Bereichen optische, mikromechanische und piezoresistive Sensoren sowie Siliziumdetektoren. Sie beschäftigt 120 Mitarbeiter und unterstützt Unternehmen bei der Entwicklung kundenspezifischer Lösungen in den Bereichen Sensorik und Mikrosystemtechnik und fertigt diese in Kleinserien. Basis ist die Siliziumtechnologie mit den Spezialitäten: 3D-Strukturierung, Stapeltechnologien und beidseitige Wafer-Prozessierung.


Kontakt für die Presse:
CiS Forschungsinstitut für Mikrosensorik GmbH, D-99099 Erfurt
Uta Neuhaus | Tel.: +49 361 663 1154 | E-Mail: uneuhaus@cismst.de | www.cismst.de

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